微細気泡発生装置ならびに浴槽システム

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岡田和秀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998366589
Publication number (International publication number)：2000184978
Application date： Dec. 24, 1998
Publication date： Jul. 04, 2000
Summary：

【要約】【課題】微細気泡発生装置において、貯溜槽内の液体中に大量の微細気泡を充満させるようにすること。【解決手段】浴槽10内から取り出した浴槽水に空気混入手段24で空気を混入させて循環ポンプ22の加圧力により空気を溶解させてから、浴槽10内へ戻すようにした微細気泡発生装置20において、空気混入手段24の下流で浴槽水を旋回流発生手段29で旋回させながら流すようにしている。これにより、浴槽水中に混入させた気泡が大きく成長することを防止できて、浴槽水中に可及的に多くの空気を溶解させやすくなる。そのため、可及的に多くの空気が溶解されかつ比較的大きな気泡を含まない浴槽水を浴槽10内へ流入させることが可能になり、浴槽10内の浴槽水中に大量の微細気泡を充満させることができる。

Claim (excerpt)：

貯溜槽内の液体を取り出して、この液体中に空気を混入かつ溶解させてから、貯溜槽内に戻すことにより貯溜槽内で微細気泡を発生させる微細気泡発生装置であって、貯溜槽から取り出された液体に空気を混入かつ溶解させて、この液体を流路内で旋回させて流し、この旋回して流れる液体中の分離気泡を液体から取り除いて貯溜槽へ流す、ことを特徴とする微細気泡発生装置。

IPC (5)：

A47K 3/00 , B01F 1/00 , B01F 3/04 , B01F 5/00 , C02F 1/24

FI (7)：

A47K 3/00 F , A47K 3/00 E , B01F 1/00 A , B01F 3/04 C , B01F 3/04 Z , B01F 5/00 G , C02F 1/24 A

F-Term (9)：

4D037AA09 , 4D037AB02 , 4D037BA02 , 4D037BB04 , 4G035AA01 , 4G035AB16 , 4G035AB27 , 4G035AC01 , 4G035AE13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

気泡発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-105431 Applicant：松下電器産業株式会社
浴槽用オゾン反応処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-095168 Applicant：住友精密工業株式会社
特開平4-241860

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