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J-GLOBAL ID:200903096135682708
水素水製造装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中野 雅房
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004342185
Publication number (International publication number):2006150188
Application date: Nov. 26, 2004
Publication date: Jun. 15, 2006
Summary:
【課題】 本発明の目的とするところは、電解槽内の水の分解効率を上げ、水素ガスを効率よく供給することができる水素水製造装置を提供することにある。【解決手段】 浴槽103内の浴水(温水)と、電解槽116で水を電気分解して発生させた水素ガスを気液混合タンク102内に供給する。浴水は、気液混合タンク102内で水素ガスが溶解されて再び浴槽103内に噴出される。浴槽103から気液混合タンク102へ浴水を供給する吸込管105は、電解槽116の周囲に接して巻き付くようにして配管されており、吸込管105内を流れる浴水の熱によって、電解槽116内に溜められた電解液を加温する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
気液混合タンクと、温水を前記気液混合タンクに注入する第1の水流路と、前記気液混合タンク内の温水を送り出す第2の水流路と、前記両水流路及び前記気液混合タンクに温水を通過させるためのポンプと、水素ガスを発生させるための電解槽と、前記電解槽から前記気液混合タンクに水素ガスを供給する水素ガス供給管とを備えた水素水製造装置において、
前記気液混合タンクを流れる温水の熱を利用して前記電解槽内の電解液を加温する手段を有することを特徴とする水素水製造装置。
IPC (6):
C02F 1/46
, A47K 3/00
, B01F 1/00
, C02F 1/68
, C25B 1/04
, C25B 15/08
FI (15):
C02F1/46 Z
, A47K3/00 E
, A47K3/00 M
, A47K3/00 Z
, B01F1/00 A
, C02F1/68 510H
, C02F1/68 520B
, C02F1/68 530B
, C02F1/68 530K
, C02F1/68 530L
, C02F1/68 540C
, C02F1/68 540E
, C02F1/68 540Z
, C25B1/04
, C25B15/08 302
F-Term (27):
2D005FA00
, 4D061DA07
, 4D061DB09
, 4D061EA02
, 4D061EB04
, 4D061EB11
, 4D061EB19
, 4D061EB37
, 4D061EB39
, 4D061ED12
, 4D061ED13
, 4D061FA01
, 4D061FA08
, 4D061FA13
, 4D061GA04
, 4D061GA09
, 4D061GC11
, 4D061GC14
, 4D061GC20
, 4G035AA01
, 4G035AE02
, 4K021AA01
, 4K021BA02
, 4K021BC07
, 4K021CA09
, 4K021CA12
, 4K021DC03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
特願2004-66071号公報
-
洗浄機能付き連続式電解イオン水生成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-020125
Applicant:赤井電機株式会社
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