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J-GLOBAL ID：200903096140274774

導電性高分子製造用酸化剤および導電性高分子

Inventor： 戸澤 正明 ,  杉原 良介 ,  高杉 大作
Applicant, Patent owner： テイカ株式会社
Agent (1)： 三輪 鐵雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000334064
Publication number (International publication number)：2002138135
Application date： Nov. 01, 2000
Publication date： May. 14, 2002
Summary：

【要約】【課題】 導電性高分子を化学酸化重合により製造するに際して酸化剤として有用性を有し、かつ電導度が高い導電性高分子を製造できる導電性高分子製造用酸化剤を提供する。【解決手段】 キシレンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸およびイソプロピルベンゼンスルホン酸よりなる群から選ばれる少なくとも1種のスルホン酸の遷移金属塩で導電性高分子製造用酸化剤を構成する。上記スルホン酸としてはm-キシレンスルホン酸が好ましく、遷移金属塩としては第二鉄塩が好ましい。導電性高分子は、上記酸化剤を用いて複素五員環化合物を酸化重合させ、得られる高分子のマトリックス中に上記酸化剤の構成成分であるキシレンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸およびイソプロピルベンゼンスルホン酸よりなる群から選ばれる少なくとも一種のスルホン酸をドーパントとして含有させることによって製造する。

Claim (excerpt)：

キシレンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸およびイソプロピルベンゼンスルホン酸よりなる群から選ばれる少なくとも1種のスルホン酸の遷移金属塩からなる導電性高分子製造用酸化剤。

IPC (4)：

C08G 61/12 ,  C09K 3/16 108 ,  C09K 3/16 ,  H01B 1/12

FI (4)：

C08G 61/12 ,  C09K 3/16 108 B ,  C09K 3/16 108 E ,  H01B 1/12 F

F-Term (6)：

4J032BA01 ,  4J032BA03 ,  4J032BA13 ,  4J032BC03 ,  4J032CG01 ,  4J032CG06