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J-GLOBAL ID：200903096205859309

レジスト組成物

Inventor： 尾家 正行 ,  田中 秀行 ,  阿部 信紀
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992108822
Publication number (International publication number)：1993281730
Application date： Mar. 31, 1992
Publication date： Oct. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】 感度、解像度、耐エッチング性、及び保存安定性などのレジスト特性が高度にバランスのとれたレジスト材料を提供すること。【構成】 酸分解性基を有する化合物、及び活性光線の照射により酸を生成する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物が特定のハロゲン含有多価フェノール化合物であることを特徴とするレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

酸分解性基を有する化合物、及び活性光線の照射により酸を生成する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物が一般式(I)〜(VII)で示される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のハロゲン含有多価フェノール化合物であることを特徴とするレジスト組成物。一般式(I)【化1】R1〜R6:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(ただし、少なくとも1つはハロゲン)R7〜R10:水素、アルキル基一般式(II)【化2】R1〜R8:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(ただし、少なくとも1つはハロゲン)R9〜R11:水素、アルキル基一般式(III)【化3】R1〜R8:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(ただし、少なくとも1つはハロゲン)R9〜R14:水素、アルキル基一般式(IV)【化4】R1〜R8:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(ただし、少なくとも1つはハロゲン)R9〜R10:水素、アルキル基A :単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリーレン基、置換アリーレン基一般式(V)【化5】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(ただし、少なくとも1つはハロゲン)R9〜R12:水素、アルキル基B :酸素、単結合一般式(VI)【化6】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(ただし、少なくとも1つはハロゲン)R9〜R11:水素、アルキル基B :酸素、単結合一般式(VII)【化7】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(ただし、少なくとも1つはハロゲン)R9〜R10:水素、アルキル基B :酸素、単結合

IPC (4)：

G03F 7/029 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027