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J-GLOBAL ID：200903096215172158

微構造体およびその製造方法

Inventor： 森本 廉 ,  平井 義彦 ,  照井 康明 ,  丹羽 正昭 ,  安井 十郎 ,  岡田 健治 ,  宇田川 昌治 ,  幸 康一郎
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993056680
Publication number (International publication number)：1994224122
Application date： Mar. 17, 1993
Publication date： Aug. 12, 1994
Summary：

【要約】【目的】 シリコン基板と酸化膜で分離された微構造体を提供する。【構成】 シリコン(100)基板上に、結晶面方位(111)面を酸化して得られた側壁23を有する、断面が三角形の構造体14の頂上部分に、結晶面方位(111)面を酸化して得られた側壁を有する断面が逆三角形状の微細構造体15が形成されいる。この微細構造体15が側壁酸化膜23によって断面が三角形の構造体14と分離されている。

Claim (excerpt)：

シリコン(100)基板上に、結晶面方位(111)面を酸化して得られた側壁を有する断面が三角形状の構造体を具備し、前記構造体の頂上部分に、結晶面方位(111)面を酸化して得られた側壁を有する断面が逆三角形状の微細構造体を具備し、前記微細構造体が酸化膜によって前記構造体と分離されていることを特徴とする微構造体。

IPC (4)：

H01L 21/20 ,  H01L 21/306 ,  H01L 29/06 ,  H01L 29/66