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J-GLOBAL ID:200903096230768504

ケーソンの沈設方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 柳田 良徳 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002091065
Publication number (International publication number):2003286725
Application date: Mar. 28, 2002
Publication date: Oct. 10, 2003
Summary:
【要約】【課題】 支持地盤が軟弱地盤であってもケーソンの施工を可能にして、ケーソンの過沈下も阻止することが出来るケーソンの沈設方法を提供する。【解決手段】 本発明によるケーソンの沈設方法は、ケーソン1の刃口下部に該当する範囲5に無芯材で所定強度のSMW6を必要本数設置し、しかる後にSMW6の上にケーソン1を設定して地盤2及びSMW6を掘削することで支持力7を低下させており、これによって、支持地盤が軟弱地盤であってもケーソンの施工を可能にし、一定の支持力を常に確保することで過沈下を防止することによって、沈設作業の安定化を図ると共に、工期管理を容易にしている。
Claim (excerpt):
ケーソンの刃口下部に該当する範囲に無芯材で所定強度のソイルセメント連続壁を必要本数設置し、しかる後に該ソイルセメント連続壁の上にケーソンを設定して地盤及びソイルセメント連続壁を掘削することで支持力を低下させるケーソンの沈設方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭62-228530
  • 特開昭62-228530

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