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J-GLOBAL ID：200903096308871544

光リソグラフィー用蛍石

Inventor： 佐久間 繁 ,  水垣 勉 ,  塩澤 正樹 ,  高野 修一 ,  西川 秀美
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン ,  応用光研工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994134720
Publication number (International publication number)：1996005801
Application date： Jun. 16, 1994
Publication date： Jan. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】 蛍石をステッパー等の光リソグラフィー用の光学部材として用いたときに充分な結像性能が得られるような蛍石を提供する。【構成】 350nm以下の特定波長帯域で使用される光リソグラフィー用蛍石において、屈折率差Δnが5×10-6以下とすることにより、光学系を組み立てたときの波面収差を小さくすることが可能となる。

Claim (excerpt)：

350nm以下の特定波長帯域で使用される光リソグラフィー用蛍石において、屈折率差Δnが5×10-6以下であることを特徴とする光リソグラフィー用蛍石。

IPC (2)：

G02B 1/02 ,  G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平4-349198
  
• 特開平4-349199