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J-GLOBAL ID：200903096334501968

光投影露光装置

Inventor： 佐瀬 善光 ,  鈴木 友則 ,  青柳 正美
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立計測エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992280372
Publication number (International publication number)：1994132197
Application date： Oct. 20, 1992
Publication date： May. 13, 1994
Summary：

【要約】【目的】 光投影露光装置における合わせマーク検出用光ビ-ムの光軸ずれを自動的に補正して、マーク検出信号の波形歪を除去し、アライメント精度を向上する。【構成】 アライメント光源30に接続された光ファイバ29の端面26からの出射光を投影レンズ2を介してウエハ3に垂直入射し、その反射光を投影レンズ2を介して光検出器24に導いてウエハ3上の合わせマ-ク4の位置を検出するTTL方式のパターン検出装置において、ウェハ3を搭載するZステ-ジ5のZ方向(光軸方向)位置をステップ状に変え、各Z位置において光検出器24の出力より求まる合わせマ-クの各位置情報より、光源ステ-ジ27の移動量を算出してファイバ端面26の位置を補正し、上記合わせマ-クの位置変化がゼロになるようにしてウエハ照射光の光軸傾き誤差を自動的に補正する。

Claim (excerpt)：

アライメント光を投影レンズを介してウエハ等の被露光体に垂直入射し、その反射光を投影レンズを介して光検出器に導いて被露光体上の合わせマ-クの位置を検出する光投影露光装置において、被露光体に対する上記アライメント光の入射角度を調節する手段を設けたことを特徴とする光投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-154325
  
• 特開平2-047822
  
• 特開平1-209721
  
• 特開昭59-027526