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J-GLOBAL ID：200903096355939840

パターン認識における遺伝アルゴリズムを用いたマスクの最適化方法

Inventor： 竹田 史章 ,  尾波 宰三 ,  門野 孝史
Applicant, Patent owner： グローリー工業株式会社
Agent (1)： 安形 雄三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993285527
Publication number (International publication number)：1995121719
Application date： Oct. 21, 1993
Publication date： May. 12, 1995
Summary：

【要約】【目的】 本発明の目的は、紙葉類等のパターン認識において、生物の進化過程のメカニズムをマスクパターンの決定に応用し、目標とする識別性能を満たす最適なマスクを生成する遺伝アルゴリズムを用いたマスクの最適化方法を提供することにある。【構成】 パターン認識にニューラルネットワークを使用し、画像におけるマスクの被覆位置を符号化して個体の遺伝子とする。生物の進化過程の基本特性である交差、淘汰、突然変異をコンピュータで模倣することで遺伝子を組み替える。この動作を数世代繰り返すことでマスクを全数調査することなく効率良く最適化する。

Claim (excerpt)：

識別すべき紙葉類の光学パターン画像を入力して画像データを記憶し、この記憶した画像データから前記紙葉類のみの光学パターン画像を抽出し、この抽出した光学パターン画像に対して複数種のマスクを施し、前記マスクを符号化して遺伝子として設定し、前記マスクからなるマスクパターンをかけた画像データ総和値をニューラルネットワークに入力して前記紙葉類の識別を学習させ、その結果を評価し、所定の識別達成度に有るか否かに応じて前記マスクパターンを淘汰し、残ったマスクパターンに対して遺伝子組み替え或いは、突然変異を実行して世代交代させ、この世代交代させたマスクパターンを用いて前記ニューラルネットワークの学習を実行するという一連の処理を、所定の世代交代数内で所定の識別達成値に達するまで繰り返して前記マスクを最適に配置するようにしたことを特徴とするパターン認識における遺伝アルゴリズムを用いたマスクの最適化方法。

IPC (3)：

G06T 7/00 ,  G06F 15/18 560 ,  G07D 7/00