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J-GLOBAL ID：200903096414478770

シリコンと窒素を主成分とする発光材料及びその製造方法並びにこれを用いた発光素子

Inventor： 水嶋 一樹 ,  山口 健志 ,  佐々 紘一
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 須田 正義
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999077188
Publication number (International publication number)：2000273450
Application date： Mar. 23, 1999
Publication date： Oct. 03, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 基板上に作製可能であって、発光効率が高く、発光減衰速度の速い発光材料及びこれを用いた発光素子を安価に製造する。【解決手段】 シリコンと窒素を主成分とし、アモルファス構造を有する発光材料であって、Si3N4を構成するシリコンの化学量論的理論量よりもシリコンの組成比が大きく、2.2eV近傍で発光ピークを持つ発光材料である。この発光材料が基板11上に発光層12として形成されることにより発光素子10が構成される。Si3N4は、シラン(SiH4)とアンモニア(NH3)を原料ガスとして化学気相堆積法により、600〜1400°Cで基板上に堆積する。

Claim (excerpt)：

シリコンと窒素を主成分とし、アモルファス構造を有する発光材料であって、Si3N4を構成するシリコンの化学量論的理論量よりもシリコンの組成比が大きく、発光強度が2.2eV近傍でピークを持つことを特徴とするシリコンと窒素を主成分とする発光材料。

IPC (7)：

C09K 11/59 ,  C01B 21/068 ,  C09K 11/00 ,  C09K 11/02 ,  C09K 11/08 ,  C23C 16/34 ,  H01L 33/00

FI (7)：

C09K 11/59 ,  C01B 21/068 Z ,  C09K 11/00 B ,  C09K 11/02 A ,  C09K 11/08 A ,  C23C 16/34 ,  H01L 33/00 A

F-Term (17)：

4H001CA07 ,  4H001CF01 ,  4H001XA07 ,  4H001XA14 ,  4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030BA40 ,  4K030BB04 ,  4K030BB05 ,  4K030JA06 ,  4K030JA10 ,  4K030LA18 ,  5F041AA11 ,  5F041CA04 ,  5F041CA33 ,  5F041CA64 ,  5F041FF14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭55-080706
  
• 特開昭47-027899