Pat
J-GLOBAL ID:200903096450196625
毛髪化粧料
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
古谷 聡
, 溝部 孝彦
, 持田 信二
, 義経 和昌
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004168249
Publication number (International publication number):2005343860
Application date: Jun. 07, 2004
Publication date: Dec. 15, 2005
Summary:
【課題】 毛髪に塗布してから洗い流す濯ぎ時に渡って、十分な滑らか感、しっとり感、また乾燥後に十分な滑らかさ、櫛通りの良さを付与でき、且つ切れ毛、枝毛等のダメージ修復効果に優れ、また安全性が高く皮膚等に対して温和な作用を示す毛髪化粧料の提供。 【解決手段】 (a)一般式(1)で表されるアミドアミン、(b)エステル化合物、(c)炭素数8〜30の脂肪族アルコール及び(d)有機酸を含有する毛髪化粧料。【化1】[式中、R1COは全脂肪酸残基中、炭素数20以上の脂肪酸残基の割合が60重量%以上、炭素数20の脂肪酸残基の割合が3重量%以上、炭素数22の脂肪酸残基の割合が50〜95重量%である脂肪酸残基を示す。]【選択図】 なし
Claim (excerpt):
下記(a)成分、(b)成分、(c)成分及び(d)成分を含有する毛髪化粧料。
(a)一般式(1)で表されるアミドアミン
IPC (1):
FI (1):
F-Term (37):
4C083AC071
, 4C083AC072
, 4C083AC122
, 4C083AC151
, 4C083AC152
, 4C083AC301
, 4C083AC302
, 4C083AC351
, 4C083AC352
, 4C083AC421
, 4C083AC422
, 4C083AC441
, 4C083AC442
, 4C083AC482
, 4C083AC582
, 4C083AC641
, 4C083AC642
, 4C083AC692
, 4C083AD042
, 4C083AD152
, 4C083AD162
, 4C083AD282
, 4C083AD662
, 4C083BB02
, 4C083BB06
, 4C083CC33
, 4C083DD08
, 4C083DD23
, 4C083DD27
, 4C083DD28
, 4C083DD31
, 4C083DD41
, 4C083DD44
, 4C083EE06
, 4C083EE07
, 4C083EE28
, 4C083EE29
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
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毛髪処理剤組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-100651
Applicant:株式会社資生堂
-
毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-315913
Applicant:株式会社資生堂
-
毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-236355
Applicant:株式会社資生堂
-
ヘアコンディショニング組成物
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平10-514632
Applicant:ザプロクターエンドギャンブルカンパニー
-
毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-085691
Applicant:株式会社資生堂
-
ヘアコンディショニング組成物
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-527223
Applicant:ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ
-
毛髪処理剤組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-385370
Applicant:株式会社資生堂
-
毛髪用組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-254079
Applicant:東邦化学工業株式会社
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Cited by examiner (9)
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毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-021456
Applicant:花王株式会社
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毛髪処理剤組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-211621
Applicant:花王株式会社
-
毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-280371
Applicant:花王株式会社
-
毛髪処理剤組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-100651
Applicant:株式会社資生堂
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毛髪用組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-254079
Applicant:東邦化学工業株式会社
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ポリアセタール樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-228702
Applicant:旭化成工業株式会社
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流出微粒子土壌沈殿回収槽
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-210186
Applicant:籏山宏, 柴田謙司, 田中一
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毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-304798
Applicant:花王株式会社
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毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-400037
Applicant:花王株式会社
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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KAO chemicals 脂肪酸・グリセリン, 19840801, p6-7
-
FATTY ACID & GLYCERINE 脂肪酸/グリセリン, 199711, p6-7
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香粧品原料 アンホレックス アミコールCDE スパミン アミコールCM トイレタリー石鹸 その他各種脂, 199604, p38-39
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