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J-GLOBAL ID:200903096501323813
真空用フッ素ゴム並びにその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
鈴木 俊一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992256534
Publication number (International publication number):1994107803
Application date: Sep. 25, 1992
Publication date: Apr. 19, 1994
Summary:
【要約】【構成】本発明の真空用フッ素ゴムは、常温で1×10-5〜1×10-8Torrの雰囲気下で12時間放置後のアウトガス放出量が、単位表面積当り1×10-7Torr・l/sec・cm2以下であることを特徴とする。また本発明の真空用フッ素ゴムは、メチルエチルケトン溶剤に常温で24時間浸漬した場合における、フッ素ゴムからの抽出量が単位体積当り0.02g/cm3以下であることを特徴とする。このようなフッ素ゴムは、例えば、架橋されたフッ素ゴムを水などの溶剤と接触させることにより得られる。【効果】本発明の真空用フッ素ゴムでは、高真空中に置かれても放出ガス量が少ない。該真空用フッ素ゴムをシール材に用いれば、短時間でチャンバー内を高真空状態にすることができ、しかもチャンバーやチャンバー内の半導体などの被処理物は汚染されず、またCVD装置内にパーティクルが生成することもない。
Claim (excerpt):
常温で1×10-5〜1×10-8Torrの雰囲気下で12時間放置後のアウトガス放出量が、単位表面積当り1×10-7Torr・l/sec・cm2以下であることを特徴とする真空用フッ素ゴム。
IPC (6):
C08J 3/24 CEQ
, C08F214/18 MKK
, C08J 3/00 CEQ
, C08K 3/22
, C08K 5/00 KJH
, C08L 27/12 KJG
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