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J-GLOBAL ID：200903096538996834

光学部品の洗浄方法及び光学部品の洗浄装置

Inventor： 丁 剛洙
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 長尾 達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001312290
Publication number (International publication number)：2003119054
Application date： Oct. 10, 2001
Publication date： Apr. 23, 2003
Summary：

【要約】【課題】光洗浄では除去することができず、また洗浄に長時間を有するためにレンズ等の温度が上昇してしまうような有機物汚染の除去を、ムラ無く、効果的に、短時間で処理することができる光学部品の洗浄方法及び光学部品の洗浄装置を提供する。【解決手段】プラズマ生成装置によってプラズマ化されたガスを用いて減圧可能な洗浄処理容器内に収容された光学部品を洗浄する光学部品の洗浄方法または装置であって、前記プラズマ生成装置と前記洗浄処理容器とを分離し、該プラズマ生成装置によって活性酸素種または活性酸素種と不活性ガスによる低エネルギー粒子を生成し、これらを前記洗浄処理容器内に供給して前記光学部品を洗浄する。

Claim (excerpt)：

プラズマ生成装置によってプラズマ化されたガスを用いて減圧可能な洗浄処理容器内に収容された光学部品を洗浄する光学部品の洗浄方法であって、前記プラズマ生成装置と前記洗浄処理容器とを分離し、該プラズマ生成装置によって活性酸素種または活性酸素種と不活性ガスによる低エネルギー粒子を生成し、これらを前記洗浄処理容器内に供給して前記光学部品を洗浄することを特徴とする光学部品の洗浄方法。

IPC (3)：

C03C 23/00 ,  B08B 7/00 ,  G02B 1/10

FI (3)：

C03C 23/00 A ,  B08B 7/00 ,  G02B 1/10 Z

F-Term (14)：

2K009BB02 ,  2K009BB04 ,  2K009DD09 ,  2K009DD17 ,  2K009EE00 ,  3B116AA03 ,  3B116AB42 ,  3B116BB88 ,  3B116BB89 ,  3B116CD11 ,  4G059AA11 ,  4G059AB17 ,  4G059AB19 ,  4G059AC30