Pat

J-GLOBAL ID：200903096545865990

光リソグラフィ装置

Inventor： 山形 茂 ,  中村 良平 ,  片岡 正篤 ,  須釜 明彦 ,  剣持 克彦
Applicant, Patent owner： 信越石英株式会社
Agent (1)： 高橋 昌久 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993323264
Publication number (International publication number)：1995078791
Application date： Dec. 23, 1987
Publication date： Mar. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】 短波長レーザを光源として用いた光リソグラフィ装置に組込まれるレンズその他の光学系として、長時間にわたる屈折率、透過率等の安定性を確保するとともに、蛍光の低減をはかり得るリソグラフィ装置を提供する事を目的とする。【構成】 光リソグラフィ装置の光学系の少なくとも一部を、高純度の石英ガラス材で形成するとともに、該石英ガラス材組織中のOH基含有量を少なくとも300ppm以上に設定した事を特徴とする。

Claim (excerpt)：

光源として400nm以下の特定波長域のレーザ光と該レーザ光をウエーハ上に付光学系とを用いて、ウエーハ上に集積回路パターンを描画する光リソグラフィ装置において、該光リソグラフィ装置の光学系の少なくとも一部を高純度の石英ガラス材で形成するとともに、該石英ガラス材組織中のOH基含有量を少なくとも300ppm以上に設定した事を特徴とする光リソグラフィ装置

IPC (3)：

H01L 21/30 ,  C03C 3/06 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 515 B