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J-GLOBAL ID:200903096556515940

立体形状マイクロ部品の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 曾我 道照 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998130681
Publication number (International publication number):1999327154
Application date: May. 13, 1998
Publication date: Nov. 26, 1999
Summary:
【要約】【課題】 レジストの露光、現像工程を用いることにより、マイクロな部品を高精度で加工できる立体形状マイクロ部品の製造方法を得る。【解決手段】 基板にレジストを塗布する工程と、基板上にマスクを配置して光を照射することにより上記レジストを露光する際、表面あるいは裏面の少なくともいずれか一方向の光軸を基板に対して傾斜させ、かつ基板を連続的または断続的に回転させながら露光する工程と、露光後、上記レジストを現像する工程とを有する。また、基板として光透過性基板を用いると共に、レジストを塗布する基板上に予めマスクを形成する工程をさらに有する。さらに、レジストを塗布する基板上に予め形成するマスクとして、めっきのための電極材料を用いる。
Claim (excerpt):
基板にレジストを塗布する工程と、基板上にマスクを配置して光を照射することにより上記レジストを露光する際、表面あるいは裏面の少なくともいずれか一方向の光軸を基板に対して傾斜させ、かつ基板を連続的または断続的に回転させながら露光する工程と、露光後、上記レジストを現像する工程とを有する立体形状マイクロ部品の製造方法。
IPC (2):
G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027
FI (2):
G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 502 C

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