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J-GLOBAL ID：200903096561437893

反射防止コーティング組成物

Inventor： ロバート・リチャード・デッチエイラ ,  クリストファー・フランシス・リオン ,  ラトナサバパシー・ソリヤクマラン ,  ゲリー・トーマス・スピニロ ,  ケビン・マイケル・ウェルシュ ,  ロバート・ラビン・ウッド
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 頓宮 孝一 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993000065
Publication number (International publication number)：1994084789
Application date： Jan. 04, 1993
Publication date： Mar. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、フォトリソグラフィにおける照射光の反射による弊害を排除することを目的とする。【構成】 反射防止コーティング組成物(ARC)は、ミッドUV及びディープUV放射に対して吸収性が高く、化学的に増幅されたフォトレジスト組成物との接触反応に対して実質上不活性であり、化学的に増幅されたフォトレジスト組成物の現像剤において不溶性であるポリマ組成物より成り、化学的に増幅されたフォトレジスト組成物と併用される。従って本発明の組成物を用いた場合、線幅のばらつきは大幅に改善される(2)。

Claim (excerpt)：

ミッドUV及びディープUV放射に対して吸収性が高く、化学的に増幅されたフォトレジスト組成物との接触反応に対して実質上不活性であり、かつ化学的に増幅されたフォトレジスト組成物の現像剤に対して不溶性であるポリマ組成物より成り、化学的に増幅されたフォトレジスト組成物と併用する反射防止コーティング組成物。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/11 503

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-040421
  
• 特開平1-202747
  
• 特開平3-249656
  
• 特開平4-052644