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J-GLOBAL ID：200903096562360274

金属微粒子の光学定数測定方法

Inventor： 和田 順雄
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 篠原 泰司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991241768
Publication number (International publication number)：1993079973
Application date： Sep. 20, 1991
Publication date： Mar. 30, 1993
Summary：

【要約】【目的】 Bruggemannの有効媒質近似理論を適用するにあたって最も理想的な金属微粒子の分布系を実現し、これにより、より正確に金属微粒子の光学定数を求めるための方法を提供する。【構成】 真空装置内で流動する油面上に真空蒸着法により金属を蒸着して得られる金属微粒子の分布系に、該分布系全体の光学定数と有効媒質近似理論を適用して、上記金属微粒子の光学定数を求めるようにする。

Claim (excerpt)：

真空装置内で流動する油面上に真空蒸着法により金属を蒸着して得られる金属微粒子の分布系に、該分布系全体の光学定数と有効媒質近似理論を適用して、上記金属微粒子の光学定数を求めるようにした金属微粒子の光学定数測定方法。