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J-GLOBAL ID:200903096562987846

ポリオキシアルキレンポリオール及びその誘導体、並びに、該ポリオキシアルキレンポリオールの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 最上 正太郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998146443
Publication number (International publication number):1999106500
Application date: May. 28, 1998
Publication date: Apr. 20, 1999
Summary:
【要約】【課題】 高分子量化した場合でも、総不飽和度が低く、H-T結合選択率が高く、分子量分布がシャープであるポリルオキシアルキレンポリオール、並びに、その製造方法及び誘導体を提供する。【解決手段】 ホスファゼニウム化合物を触媒として用いて得られた、水酸基価が2〜200mgKOH/g、総不飽和度が0.0001〜0.07meq./g、ポリオキシプロピレンポリオールのH-T結合選択率が95モル%以上であり、且つ、GPC溶出曲線のピークの最大高さを100%とし、そのピーク高さの20%でのピーク幅をW20、ピーク高さの80%でのピーク幅をW80と定義したとき、それらの比(W20/W80)が1.5以上、3未満であるポリオキシアルキレンポリオール、並びに、その製造方法及び誘導体。
Claim (excerpt):
ホスファゼニウム化合物を触媒として用いて得られたポリオキシアルキレンポリオールであって、水酸基価(OHV)が2〜200mgKOH/g、総不飽和度(C=C)が0.0001〜0.07meq./g、プロピレンオキサイド付加重合によるポリオキシアルキレンポリオールのヘッド-トウ-テイル(H-T)結合選択率が95モル%以上であり、W20/W80が1.5以上、3未満であることを特徴とするポリオキシアルキレンポリオール。
IPC (8):
C08G 65/10 ,  C08G 18/48 ,  C08G 65/30 ,  C08L 25/04 ,  C08L 33/10 ,  C08L 33/20 ,  C08L 33/26 ,  C08L 71/02
FI (8):
C08G 65/10 ,  C08G 18/48 Z ,  C08G 65/30 ,  C08L 25/04 ,  C08L 33/10 ,  C08L 33/20 ,  C08L 33/26 ,  C08L 71/02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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