含フッ素化合物とその高分子化合物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003279778
Publication number (International publication number)：2004083900
Application date： Jul. 25, 2003
Publication date： Mar. 18, 2004
Summary：

【課題】新規な含フッ素化合物及びそれを用いた高分子化合物を用い、高いフッ素含量を有しながら、同一分子内に水酸基あるいはそれを修飾した官能基を持たせることで、真空紫外線から光通信波長域に至る波長領域で、高い透明性と低屈折率性を有し、かつ基板への密着性、高い成膜性、エッチング耐性、耐久性を併せ持つ反射防止膜材料またはレジスト材料を提供する。【解決手段】一般式(1)で表される含フッ素化合物(式中、R1はメチル基またはトリフルオロメチル基を表し、R2、R3は水素原子、炭素数1〜25の直鎖状、分岐状もしくは環状の炭化水素基あるいは芳香族炭化水素基を含む基であって、その一部にフッ素原子、酸素原子、カルボニル結合を含んでもよい。lは0〜2の任意の整数を表し、m、nは1〜5の任意の整数を表し、m+n≦6を満たす。R1〜R3が複数の場合、R1〜R3はそれぞれ同一でも異なってもよい。)。【化1】【選択図】なし

Claim (excerpt)：

一般式(1)で表される含フッ素化合物(式中、R1はメチル基またはトリフルオロメチル基を表し、R2、R3は水素原子、炭素数1〜25の直鎖状、分岐状もしくは環状の炭化水素基あるいは芳香族炭化水素基を含む基であって、その一部にフッ素原子、酸素原子、カルボニル結合を含んでもよい。lは0〜2の任意の整数を表し、m、nは1〜5の任意の整数を表し、m+n≦6を満たす。R1〜R3が複数の場合、R1〜R3はそれぞれ同一でも異なってもよい。)。

IPC (17)：

C08F20/24 , C07C33/44 , C07C33/48 , C07C35/48 , C07C39/24 , C07C43/196 , C07C43/225 , C07C43/23 , C07C69/54 , C07C69/65 , C07C69/96 , C08F16/12 , G02B1/11 , G03F7/004 , G03F7/033 , G03F7/039 , G03F7/11

FI (17)：

C08F20/24 , C07C33/44 , C07C33/48 , C07C35/48 , C07C39/24 , C07C43/196 , C07C43/225 C , C07C43/23 E , C07C69/54 B , C07C69/65 , C07C69/96 Z , C08F16/12 , G03F7/004 501 , G03F7/033 , G03F7/039 601 , G03F7/11 503 , G02B1/10 A

F-Term (62)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC06 , 2H025CC20 , 2H025DA34 , 2H025FA17 , 2K009AA04 , 2K009CC26 , 2K009DD02 , 4H006AA01 , 4H006AB46 , 4H006BJ20 , 4H006BJ30 , 4H006BJ50 , 4H006BM10 , 4H006BM71 , 4H006BN10 , 4H006BP10 , 4H006FC22 , 4H006FC52 , 4H006FE11 , 4H006FE12 , 4H006FE13 , 4H006FE71 , 4H006FE74 , 4H006GN03 , 4H006GN21 , 4H006GP01 , 4H006GP02 , 4H006GP03 , 4H006GP10 , 4H006GP20 , 4H006KA06 , 4H006KE20 , 4J100AE18P , 4J100AL08P , 4J100AL26P , 4J100AL71P , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA06P , 4J100BB18P , 4J100BC23P , 4J100BC27P , 4J100BC43P , 4J100JA32 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-149405 Applicant：富士写真フイルム株式会社
含フッ素重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物、反射防止膜材料、レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-125505 Applicant：セントラル硝子株式会社
含フッ素重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-222530 Applicant：セントラル硝子株式会社, 東ソ-・エフテック株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

Reactions of polyfluoro carbonyl compounds with phenolates

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