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J-GLOBAL ID：200903096607458211
膜厚計測光学系および該光学系を備えた成膜装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山口 孝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996340651
Publication number (International publication number)：1998158834
Application date： Dec. 05, 1996
Publication date： Jun. 16, 1998
Summary：
【要約】【課題】 広い波長域から適宜選択された所定の波長光に対する膜面の反射率に基づいて膜厚を高精度に計測する。【解決手段】 本発明は、光源(1)からの光を反射面を介して集光し、被検基板の膜面の近傍に光像を形成するための第1反射結像系(4)と、被検基板(6a)の膜面からの光を反射面を介して集光し、所定面に光像を再形成するための第2反射結像系(4)と、第2反射結像系を介して再形成された光像の光から所定波長を有する光を選択するための波長選択手段(10)とを備えている。そして、波長選択手段を介して選択された光に基づいて、被検基板に形成された膜の厚さを計測する。
Claim (excerpt)：
光源からの光を反射面を介して集光し、被検基板の膜面の近傍に光像を形成するための第1反射結像系と、前記被検基板の膜面からの光を反射面を介して集光し、所定面に前記光像を再形成するための第2反射結像系と、前記第2反射結像系を介して再形成された前記光像の光から所定波長を有する光を選択するための波長選択手段とを備え、前記波長選択手段を介して選択された光に基づいて、前記被検基板に形成された膜の厚さを計測することを特徴とする膜厚計測光学系。
IPC (2)：
FI (2)：
C23C 14/54 E
, G01B 11/06 Z
