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J-GLOBAL ID：200903096614088810

ガス処理装置及びガス処理フィルタ

Inventor： 西井 由和 ,  塚田 章吾 ,  小川 信一 ,  東田 将之 ,  當麻 洋司 ,  新井 壮二 ,  渡邉 格
Applicant, Patent owner： ホーヤ株式会社
Agent (1)： 阿仁屋 節雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997350939
Publication number (International publication number)：1999183728
Application date： Dec. 19, 1997
Publication date： Jul. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】 光触媒反応を効率よく発現でき、小型で且つ処理能力が高いガス処理装置及びガス処理フィルタを得る。【解決手段】 ガス処理ユニット1は、通気性部材としての金属フィルタ2,2間に束ねられた状態で挟み込まれた多数本の光触媒ファイバー3を有する。光触媒ファイバー3は、突起を有するファイバー状の導光体の表面に、導光体よりも高屈折率の光触媒を担持させたものである。処理されるガスは、金属フィルタ2,2間に束ねられた多数の光触媒ファイバー3の空隙を通って流れる。一方、紫外線ライト6からの紫外線は光触媒ファイバー3の端面に照射され、光触媒ファイバー3を伝搬しつつ導光体表面の光触媒へと漏れ出す。この際、ガスに含まれる悪臭成分などが紫外線によって励起された光触媒と接触し、光触媒反応により分解される。

Claim (excerpt)：

導光体の表面に該導光体よりも高い屈折率を持つ光触媒を担持させたガス処理フィルタを被処理雰囲気に設置し、前記導光体に導入した紫外線を前記光触媒から漏れ出させて光触媒反応によってガスを処理するように構成したことを特徴とするガス処理装置。

IPC (3)：

G02B 6/00 ,  B01D 53/86 ,  B01J 35/02

FI (3)：

G02B 6/00 Z ,  B01J 35/02 J ,  B01D 53/36 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 光触媒フィルタ、その装置、及びそれを用いた流体処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-041382   Applicant：ホーヤ株式会社