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J-GLOBAL ID：200903096624982633
被膜作製方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998372446
Publication number (International publication number)：1999302847
Application date： Mar. 02, 1988
Publication date： Nov. 02, 1999
Summary：
【要約】【課題】 保護膜として用いて剥離等のない炭素被膜を提供する。【解決手段】 被形成面に活性な水素または不活性気体により、被形成面の酸化物、 炭化物または窒化物等の汚染物または異物を除去した後に炭素膜を形成させる。
Claim (excerpt)：
水素または不活性気体により被形成面を洗浄し、前記被形成面に炭素または炭素を主成分とする被膜を形成することを特徴とする被膜作製方法。
IPC (4)：
C23C 16/26
, C01B 31/02 101
, G11B 5/187
, G11B 5/84
C23C 16/26 Z
, C01B 31/02 101 Z
, G11B 5/187 K
, G11B 5/84 B
Cited by examiner (10)
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