Pat

J-GLOBAL ID：200903096692168294

水素ガス製造装置

Inventor： 太田 博昭 ,  小林 大平 ,  弥延 剛 ,  糸山 景大 ,  林 佑二
Applicant, Patent owner： 北辰工業株式会社 ,  富士通株式会社
Agent (1)： 庄子 幸男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994029728
Publication number (International publication number)：1996109002
Application date： Feb. 28, 1994
Publication date： Apr. 30, 1996
Summary：

【要約】【構成】 容器10のスペースに陽極12が設けられ、この陽極12の上方側に設けられた陰極14には、陽極12と対向する部位に形成された開口16Aから上方側へ容器10を貫通する通路16が延出されている。陽極12と陰極14との間に水蒸気発生手段32によって水蒸気が供給されると共に電圧が印加されてる。これにより、両極間にグロー放電が発生して、水蒸気が分解されて水素イオンが生成される。この水素イオンは、陰極14へ向けて上方側へ移動し、通路16を通って容器10外へ水素ガスとして取り出される。【効果】 低コストで極めて短時間で水素ガスを製造できる水素ガス製造装置を提供できる。

Claim (excerpt)：

内部が水素ガスを製造するためのスペースとされる容器と、前記容器のスペースに設けられた陽極と、前記陽極の上方側でかつ前記陽極と対向して前記容器のスペースに設けられると共に前記陽極と対向する部位に形成された貫通孔から上方側へ容器を貫通して延出された通路を有する陰極と、前記陽極と陰極との間に水蒸気を供給する水蒸気供給手段と、前記陽極と陰極との間に電圧を印加し各々の電極間にプラズマを発生させる電圧印加手段と、を備えていることを特徴とする水素ガス製造装置。

IPC (2)：

C01B 3/04 ,  C25B 1/04