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J-GLOBAL ID:200903096716206338

被分析物の分析方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  二口 治 ,  伊藤 浩彰
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2003584731
Publication number (International publication number):2005521892
Application date: Apr. 04, 2003
Publication date: Jul. 21, 2005
Summary:
マトリックス支援レーザー脱離イオン化(MALDI)質量分析法により被分析物を分析するための方法であって:(a)予め定めた周波数の光を吸収する光吸収ラベルにより該被分析物を標識することによって、標識化被分析物を形成する工程;(b)該標識化被分析物を、少なくとも1つの光吸収性化合物から形成されたマトリックス中に包埋することによって、包埋標識化被分析物を形成する工程;(c)該包埋標識化被分析物を、予め定めた該周波数を有する光に露光することにより脱離させて、脱離被分析物を形成する工程;および(d)該脱離被分析物を質量分析法により検出することによって、該被分析物を分析する工程、を含むことを特徴とする方法を提供する。
Claim (excerpt):
マトリックス支援レーザー脱離イオン化(MALDI)質量分析法により被分析物を分析するための方法であって: (a) 予め定めた周波数の光を吸収する光吸収ラベルにより該被分析物を標識することによって、標識化被分析物を形成する工程; (b) 該標識化被分析物を、少なくとも1つの光吸収性化合物から形成されたマトリックス中に包埋することによって、包埋標識化被分析物を形成する工程; (c) 該包埋標識化被分析物を、予め定めた該周波数を有する光に露光することにより脱離させて、脱離被分析物を形成する工程;および (d) 該脱離被分析物を質量分析法により検出することによって、該被分析物を分析する工程; を含むことを特徴とする方法。
IPC (3):
G01N27/64 ,  C12Q1/37 ,  G01N27/62
FI (3):
G01N27/64 B ,  C12Q1/37 ,  G01N27/62 V
F-Term (5):
4B063QA13 ,  4B063QQ79 ,  4B063QR16 ,  4B063QS39 ,  4B063QX10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • WO98/31830
  • WO99/60007
Cited by examiner (1)
Article cited by the Patent:
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