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J-GLOBAL ID：200903096748123418

感光性樹脂組成物とそのパターン形成方法およびそれを用いた半導体素子とその製法

Inventor： 山田 真治 ,  三輪 崇夫 ,  上野 巧 ,  岡部 義昭
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
Agent (1)： 小川 勝男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999257688
Publication number (International publication number)：2001083704
Application date： Sep. 10, 1999
Publication date： Mar. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】新規な感光性樹脂組成物とそれを用いた半導体素子の提供にある。【解決手段】ポリアミド酸、光により酸を発生する物質、および、下式〔1〕〔式中、R1〜R5は1価の有機基または水素原子で、その中の少なくとも一つは1価の有機基、R6は1価の有機基、X1~は陰イオン〕で表されるピリジニウム塩を含む感光性樹脂組成物をバッファ層として用いた半導体素子。【化11】

Claim (excerpt)：

アルカリ水溶液に可溶性の樹脂、光により酸を発生する物質、および、式〔1〕【化1】〔式中、R1〜R5は1価の有機基または水素原子で、その中の少なくとも一つは1価の有機基、R6は1価の有機基、X1~は陰イオン〕で表されるピリジニウム塩を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/037 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/037 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (21)：

2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE01 ,  2H025BG00 ,  2H025CB25 ,  2H025CB26 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025DA20 ,  2H025EA04 ,  2H025FA17 ,  2H025FA28