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J-GLOBAL ID：200903096750397231
化学気相堆積装置及び化学気相堆積方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中野 雅房
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993092539
Publication number (International publication number)：1994283451
Application date： Mar. 25, 1993
Publication date： Oct. 07, 1994
Summary：
【要約】【目的】 ソース原料の蒸気を安定に供給することができる化学気相堆積装置及び化学気相堆積方法を提供する。【構成】 ソース原料蒸発室10内に加熱装置11を設ける。液体マスフローコントローラ5によってソース原料S1,S2を加熱装置11上に滴下し、ソース原料S1,S2を蒸発させる。気体用マスフローコントローラ8によってキャリアガスCGをソース原料蒸発室10内に供給し、キャリアガスCGにのせてソース原料S1,S2の蒸気を反応室2に運ぶ。
Claim (excerpt)：
ソース原料の蒸気を反応室に導き、化学反応を生じさせることによって対象物の表面に薄膜を成長させる化学気相堆積装置において、液体又は溶液状態のソース原料を一定の供給量で供給する液体原料供給装置と、当該ソース原料を蒸発させるための加熱装置とを備え、当該液体原料供給装置から加熱装置にソース原料を滴下することによってソース原料の蒸気を形成することを特徴とする化学気相堆積装置。
IPC (2)：
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