Pat
J-GLOBAL ID：200903096752529739

走査型露光装置

Inventor：
牧野内 進

About 牧野内 進


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 立石 篤司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997083244
Publication number (International publication number)：1998261581
Application date： Mar. 17, 1997
Publication date： Sep. 29, 1998
Summary：
【要約】【課題】 露光精度を維持しつつ、スループットを向上させる。【解決手段】 走査露光時において、ウエハW上の各ショット領域を逐次露光する際に、投影露光装置100の主制御系22は、メモリ102に予め格納してある事前に計測しておいた各ショット領域毎の整定時間を露光条件に応じて読み出し、次のショット領域へステッピングする前にその整定時間から助走距離を求め、それに応じてウエハWとレチクルを所定の助走開始位置に移動するようにする。このため、同期誤差が許容の範囲となった状態で露光を開始できるとともに、各ショット領域毎に最適な助走開始位置から助走を開始することが可能となり、スループットの向上が可能となる。
Claim (excerpt)：
マスクを保持して走査方向に移動可能なマスクステージと、前記マスク上のパターンが露光される被露光基板を保持して前記走査方向及びこれに直交する非走査方向に移動可能な基板ステージと、前記マスクステージと前記基板ステージとを助走開始位置からそれぞれ所定の走査速度まで加速し、前記両ステージ間の同期誤差を所定の許容範囲に収めた後、その等速同期状態を維持するような前記両ステージの制御を行うステージ制御部とを備えた走査型露光装置において、前記同期誤差を許容範囲に収めるまでの整定時間に影響を与えるパラメータ毎に、予め整定時間又は該整定時間に与える影響を数値化した係数を記憶する記憶手段を備え、前記ステージ制御部が、前記被露光基板上の各ショット領域の露光に先立ち、露光条件に応じて前記記憶手段から整定時間又は前記係数を読み出し、これに応じて前記助走開始位置を変更することを特徴とする走査型露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22
FI (4)：
H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 516 B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM