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J-GLOBAL ID：200903096775635935

有機化合物を含有する放射性廃液の処理方法

Inventor： 西 高志 ,  松尾 俊明 ,  雪田 篤
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998161757
Publication number (International publication number)：1999352288
Application date： Jun. 10, 1998
Publication date： Dec. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】有機化合物を含有する放射性廃液に紫外線を照射して有機化合物を分解除去する方法において、廃液に含有される有機化合物の濃度が高い場合の分解効率を向上し、処理速度の向上を図る。【解決手段】有機化合物を含有する放射性廃液に、オゾンまたは過酸化水素を添加し、かつ紫外線を照射して有機化合物を分解除去する処理方法において、処理後の廃液を用いて被処理液を希釈することを特徴とする有機化合物を含有する放射性廃液の処理方法。

Claim (excerpt)：

有機化合物を含有する放射性廃液に、オゾンまたは過酸化水素を添加し、かつ紫外線を照射して有機化合物を分解除去する処理方法において、処理後の廃液を用いて被処理液を希釈することを特徴とする有機化合物を含有する放射性廃液の処理方法。

IPC (2)：

G21F 9/06 ,  G21F 9/28 525

FI (2)：

G21F 9/06 Z ,  G21F 9/28 525 H