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J-GLOBAL ID：200903096810205655

防汚剤

Inventor： 雑賀 修 ,  伊藤 明徳 ,  佐野 愼亮 ,  岩滝 功
Applicant, Patent owner： 日本曹達株式会社
Agent (1)： 横山 吉美 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991237194
Publication number (International publication number)：1993078209
Application date： Aug. 23, 1991
Publication date： Mar. 30, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】 一般式1(例えば、X1 ,X2 は塩素原子,r1 ,r2 は水素原子である)の化合物。【効果】 本化合物は付着生物の防止に対して有効であり、本防汚剤で処理したものは、海水中で長時間にわたり水棲生物の付着防止効果が持続した。

Claim (excerpt)：

化1【化1】〔式中、X1 ,X2 は同一又は相異って水素原子又はハロゲン原子を、r1 は水素原子又は低級シアノアルキル基を、r2は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、シクロアルキル基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級ヒドロキシアルキル基、低級メルカプトアルキル基、低級シアノアルキル基、モノもしくはジ低級アルキルカルバモイル基、置換されてもよいフェニルカルバモイル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルケニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、ベンジル基、ヘテロ環基、ナフチル基、式-(CH2 )n NR’R”(式中、nは0〜3の整数を、R’,R”は同一又は相異った低級アルキル基又は低級アルコキシカルボニル基を示す。)で表される基、化2【化2】(式中、mは0〜2の整数を、R'"はハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルキル基、ヒドロキシ基、ニトロ基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた異種又は同種の置換基を示す。)で表される置換もしくは非置換フェニル基、又は化3【化3】(式中、R1 は水素原子又は低級アルキル基を、R2 はハロゲン原子又は低級アルキル基を、lは0〜2を示す。)で表される基を示す。〕で表される化合物の少なくとも1種を含有してなる防汚剤。

IPC (8)：

A01N 35/06 ,  A01N 37/44 ,  A01N 43/40 101 ,  A01N 43/54 ,  A01N 43/78 ,  A01N 47/12 ,  A01N 47/28 ,  A01N 47/30