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J-GLOBAL ID：200903096817400160
投影露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991275273
Publication number (International publication number)：1993114544
Application date： Oct. 23, 1991
Publication date： May. 07, 1993
Summary：
【要約】【目的】 レチクルマークとウエハマークとに2本のアライメントビームを照射し、その反射光(回折光)を検出するアライメント系において、レチクルやウエハからの迷光が相互に混入することにより生じる誤差を低減する。【構成】 レチクルマークの近傍に透明窓を設け、レチクルマークを検出するための2本のビームはレチクルマークのみを照射するように制限し、ウエハマークを検出するための2本のビームはレチクルの透明窓のみを通るように制限する。
Claim (excerpt)：
マスクのパターンを露光光のもとで感光基板上に結像投影する投影光学系と、前記マスクに形成された回折格子状のマスクマークと、前記感光基板に形成された回折格子状の基板マークとの夫々に、アライメント用の2本の照明ビームを対称的な角度で入射する如く照射するビーム照射手段と、前記マスクマークからの回折光と前記基板マークから発生して前記投影光学系を通ってくる回折光とを受光し、各回折光の強度に応じた光電信号を出力する受光手段と、該光電信号に基づいて前記マスクと感光基板との相対的な位置ずれを検出する手段とを備えた投影露光装置において、前記マスクは、前記マスクマークの格子周期方向と直交する方向の近傍位置、もしくは隣接位置に前記照明ビームに対して透明な領域を有し;前記ビーム照射手段は、前記マスクマークを照射するために所定角度で交差する2本の第1ビームを作る第1のビーム送光系と;前記マスクの透明領域を介して前記基板マークを照射するために所定角度で交差する2本の第2ビームを作る第2のビーム送光系と;前記2本の第1ビームと前記2年の第2ビームとを入射し、前記マスク上で前記第1ビームと第2ビームとの各照射領域が互いに分離されるように射出する対物光学系とを含むことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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