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J-GLOBAL ID：200903096837113191

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 佐藤 健一郎 ,  青合 利明
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996328680
Publication number (International publication number)：1998171121
Application date： Dec. 09, 1996
Publication date： Jun. 26, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ポジ型フォトレジスト組成物において、脂肪族環状部位(脂環有機基)により改善されたドライエッチング耐性を大きく劣化させることなく、未露光部の密着性と膜べりを改善することにある。【解決手段】 2-オキソシクロヘキシル基を有する単量体を繰り返し単位として含む重合体と、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物を含むポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で示される構造を繰り返し単位として含む重合体と、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。一般式(I)【化1】ここで、R1 は水素原子又はアルキル基を表す。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R