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J-GLOBAL ID：200903096844617880

ネガ型レジスト組成物、及びそれを用いたレジストパターン形成方法

Inventor：
岩下 淳

About 岩下 淳

, 
緒方 寿幸

About 緒方 寿幸


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (1)： 酒井 宏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003166308
Publication number (International publication number)：2005003863
Application date： Jun. 11, 2003
Publication date： Jan. 06, 2005
Summary：
【課題】ドライエッチング耐性および走査電子顕微鏡(SEM)による電子線への耐性を向上させるとともにアルカリ現像液に対する溶解性を維持し、さらに高解像性を有するネガ型レジスト組成物を提供することを課題とする。【解決手段】モノマー成分として少なくともα-(ヒドロキシアルキル)アクリル酸、α-(ヒドロキシアルキル)アクリル酸アルキルエステル、及び(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーと、他のエチレン性不飽和カルボン酸及びエチレン性不飽和カルボン酸エステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーとを有する共重合体と、酸発生剤とを含有するネガ型レジスト組成物であって、前記共重合体のモノマー成分として、さらに少なくともフッ素化された基を有する脂環式構造を有するモノマーを含むことを特徴とする。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
ホトレジスト層に用いて好適な、モノマー成分として少なくとも、α-(ヒドロキシアルキル)アクリル酸、α-(ヒドロキシアルキル)アクリル酸アルキルエステル、及び(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーと、他のエチレン性不飽和カルボン酸及びエチレン性不飽和カルボン酸エステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーとを有する共重合体と、酸発生剤とを含有するネガ型レジスト組成物であって、 前記共重合体のモノマー成分として、さらに少なくともフッ素化された基を有する脂環式構造を有するモノマーを含むことを特徴とするネガ型レジスト組成物。
IPC (4)：
G03F7/038 ,  C08F220/28 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027
FI (4)：
G03F7/038 601 ,  C08F220/28 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R
F-Term (29)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BD42 ,  2H025BE00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AJ02Q ,  4J100AJ09Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL34Q ,  4J100AL39Q ,  4J100BA03P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC08R ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53R ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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