基板処理システム及び基板処理方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000170583
Publication number (International publication number)：2001351848
Application date： Jun. 07, 2000
Publication date： Dec. 21, 2001
Summary：

【要約】【課題】最適な処理ユニットを選択する。【解決手段】未処理の基板をカセットから順次取り出し、複数の処理ユニットに順次搬送し、複数の処理ユニットにて基板を処理し、すべての処理が終了した処理済みの基板をカセットに順次戻す基板処理方法であって、少なくとも1ロット分に相当し、各ロット毎に対応する処理条件を含むレシピに基づいて、各ロット毎の処理を開始する処理開始予測時間と、各ロット毎の処理を終了する処理終了予測時間を少なくとも2つの処理について算出し、これら処理開始予測時間と処理終了予測時間に基づいて各ロット毎の処理を最適にする最適処理ユニットを各ロット毎に少なくとも1つ選択する。

Claim (excerpt)：

未処理の基板をカセットから順次取り出し、複数の処理ユニットに順次搬送し、これら複数の処理ユニットにて基板を処理し、すべての処理が終了した処理済みの基板をカセットに順次戻す基板処理システムであって、1ロット分に相当する複数の未処理基板を収容したカセットを受け入れ、1ロット分に相当する複数の処理済み基板を収容したカセットを払い出すロード/アンロード部と、基板に対して複数の処理を行う複数の処理ユニットを備えた処理部と、前記処理部内に配置され、前記ロード/アンロード部との間で基板を受け渡しし、前記処理ユニットに基板を次々に搬送する搬送手段と、少なくとも各ロット毎に対応する処理条件を含む処理手順をそれぞれ設定する処理手順設定手段と、前記設定された処理手順に基づいて、各ロット毎に各処理ユニットの処理が開始される処理開始予測時間と、各ロット毎に各処理ユニットの処理が終了する処理終了予測時間を少なくとも2つの処理について算出し、これら処理開始予測時間と処理終了予測時間に基づいて各ロット毎の処理を最適にする最適処理ユニットを各ロット毎に少なくとも1つ選択する演算処理手段とを具備してなることを特徴とする基板処理システム。

IPC (3)：

H01L 21/027 , H01L 21/02 , H01L 21/68

FI (3)：

H01L 21/02 Z , H01L 21/68 A , H01L 21/30 562

F-Term (33)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031DA01 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031HA08 , 5F031HA33 , 5F031JA01 , 5F031JA22 , 5F031JA46 , 5F031KA03 , 5F031MA02 , 5F031MA03 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F031MA30 , 5F031NA03 , 5F031NA16 , 5F031NA17 , 5F031NA20 , 5F031PA04 , 5F046AA17 , 5F046DA29 , 5F046JA22 , 5F046KA07 , 5F046LA11 , 5F046LA18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-203252 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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