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J-GLOBAL ID：200903096857680653

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： 新田 和行 ,  佐藤 和史 ,  山崎 晃義 ,  坂井 与日 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997198978
Publication number (International publication number)：1998090883
Application date： Jul. 24, 1997
Publication date： Apr. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】 高解像性及び高感度を有し、かつ引き置き経時安定性が優れ、基板依存性がなく、形状及び耐熱性が優れたレジストパターンを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)酸解離性保護基で保護された水酸基をもち、かつ酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する、重量平均分子量/数平均分子量(Mw/Mn)比3.5以下の樹脂成分に、(B)一般式【化1】(R1及びR2はピリジル基、ベンゾオキサゾリル基又はアミノ基若しくは低級ジアルキルアミノ基を有するアリール基、nは0又は1)で表わされるジスルホン化合物から成る酸発生剤を組み合わせて化学増幅型ポジ型レジスト組成物とする。

Claim (excerpt)：

(A)酸解離性保護基で保護された水酸基をもち、かつ酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する、重量平均分子量/数平均分子量(Mw/Mn)比3.5以下の樹脂成分、及び(B)一般式【化1】(式中のR1及びR2は、それぞれピリジル基、ベンゾオキサゾリル基又は少なくとも1つのアミノ基若しくは低級ジアルキルアミノ基を有するアリール基であり、それらはたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよく、nは0又は1である)で表わされるジスルホン化合物から成る酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/004 503 ,  C07C381/14 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 503 A ,  C07C381/14 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-141606   Applicant：日本ゼオン株式会社
• ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-041718   Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• 感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-253523   Applicant：富士写真フイルム株式会社