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J-GLOBAL ID：200903096877409336

フィルタの試験方法及びそれに用いる微粒子の発生方法

Inventor： 太田 昌栄
Applicant, Patent owner： 沖電気工業株式会社
Agent (1)： 船橋 国則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992163442
Publication number (International publication number)：1993332892
Application date： May. 29, 1992
Publication date： Dec. 17, 1993
Summary：

【要約】【目的】 人体や半導体シリコンウエハ等に対する有害成分の発生を少なくして、安全性を向上させる。【構成】 テスト・フィルタ4の上流部に微粒子を混合させた気体を供給し、前記テスト・フィルタ4を通過する前後の粒子数を測定するものであって、前記テスト・フィルタ4の上流部にSiO2 (石英)微粒子を発生するSiO2 発生部2を設け、このSiO2 発生部2より発生するSiO2 微粒子を前記微粒子として用いるようにした。

Claim (excerpt)：

気体用フィルタの上流部に微粒子を混合させた気体を供給し、前記気体フィルタを通過する前後の粒子数を測定するフィルタの試験方法において、前記気体用フィルタの上流部にSiO2 (石英)微粒子を発生させるSiO2発生部を設け、前記SiO2 発生部より発生するSiO2 微粒子を前記微粒子として用いることを特徴とするフィルタの試験方法。

IPC (3)：

G01M 19/00 ,  B01D 46/00 ,  F24F 3/16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭60-015543
  
• 特開平4-016217
  
• 特開昭55-066734