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J-GLOBAL ID：200903096894845417

ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

Inventor：
岩下 淳

About 岩下 淳


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (5)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005141740
Publication number (International publication number)：2006317803
Application date： May. 13, 2005
Publication date： Nov. 24, 2006
Summary：
【課題】 アルカリ現像液に対する溶解性を向上できるネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂成分、(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分、および(C)架橋剤成分を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記(A)アルカリ可溶性樹脂成分が、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を1つ有する脂肪族環式基を含有する構成単位(a1)と、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を2つ以上有する脂肪族環式基を含有する構成単位(a2)とを含む高分子化合物(A1)を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(A)アルカリ可溶性樹脂成分、(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分、および(C)架橋剤成分を含有するネガ型レジスト組成物であって、 前記(A)アルカリ可溶性樹脂成分が、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を1つ有する脂肪族環式基を含有する構成単位(a1)と、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を2つ以上有する脂肪族環式基を含有する構成単位(a2)とを含む高分子化合物(A1)を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/038 ,  C08F 220/10 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F7/038 601 ,  C08F220/10 ,  H01L21/30 502R
F-Term (32)：
2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC01Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC09R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100CA31 ,  4J100HA53 ,  4J100HC57 ,  4J100HC63 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 特公平8-3635号公報
  • ネガ型レジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-037847   Applicant：東京応化工業株式会社
Cited by examiner (3)

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