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J-GLOBAL ID：200903096924403031
新炭素材料の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
工業技術院機械技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991315378
Publication number (International publication number)：1994115915
Application date： Nov. 01, 1991
Publication date： Apr. 26, 1994
Summary：
【要約】【目的】 高出力レーザの有効な利用により、フラーレンの比較的厚い被膜、あるいはバルク材を得る。【構成】 基板上に炭素微粉を供給しながら、その炭素微粉に高出力レーザを照射して昇華させ、それを基板上に急冷析出させることにより、その基板上にフラーレンの被膜を生成させる。
Claim (excerpt)：
基板上に炭素微粉を供給しながら、その炭素微粉に高出力レーザを照射して昇華させ、それを基板上に急冷析出させることにより、その基板上にフラーレンの被膜を生成させることを特徴とする新炭素材料の製造方法。
Patent cited by the Patent：
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