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J-GLOBAL ID:200903096969970409

化粧料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995143990
Publication number (International publication number):1997002931
Application date: May. 17, 1995
Publication date: Jan. 07, 1997
Summary:
【要約】【目的】皮膚刺激が低く、物理的安定性にすぐれる化粧料の提供。【構成】特定の構造の2鎖2親水基含有界面活性剤を配合する化粧料。
Claim (excerpt):
下記(A)または(B)で示される2疎水基2親水基型陰イオン界面活性剤を含有することを特徴とする化粧料。【化1】(アシル基の炭素数は20、18、16、14、12、10または8であり、M1 は水素、1価または2価のアルカリ金属イオン、アンモニウムイオンまたは有機アンモニウムイオンであり、X1 は炭素数1〜12の飽和または不飽和炭化水素鎖である。)【化2】(アシル基の炭素数は20、18、16、14、12、10または8であり、R3 は、アミノ酸分子の残基であり、M2 は水素、1価または2価のアルカリ金属イオン、アンモニウムイオンまたは有機アンモニウムイオンであり、X2 は炭素数1〜12の飽和または不飽和炭化水素鎖である。)
IPC (2):
A61K 7/48 ,  A61K 7/00
FI (2):
A61K 7/48 ,  A61K 7/00 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 化粧料
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-100326   Applicant:鐘紡株式会社

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