Pat

J-GLOBAL ID：200903096975404210

光強度シミュレーション装置

Inventor： 福島 祐一
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996143312
Publication number (International publication number)：1997325467
Application date： Jun. 05, 1996
Publication date： Dec. 16, 1997
Summary：

【要約】【課題】 マスクパターンを最適化するためのシミュレーションを効率よく行うと共に、マスクパターンデータの部分的な変更が容易な光強度シミュレーション装置を提供すること。【解決手段】 パターン作成部11は、入力部1から入力された各種データに基づいてパターンデータを作成し、記憶部12に記憶させる。また、光強度計算部21は、パターン選択部13によって記憶部12内から選択されたパターンデータおよび光学条件選択部14によって選択された光学条件に基づいて、シミュレーション計算を行い、その結果を出力部2へ出力する。また、シミュレーション計算を繰り返し行う場合等は、解析処理部22からデータ変更指示が出され、これに基づき検索部15が記憶部12またはデータベース部3から適宜パターンデータを検索してパターン選択部13へ出力し、パターンデータの変更を行う。

Claim (excerpt)：

フォトリソグラフィ工程における露光工程のシミュレーションを行う光強度シミュレーション装置において、前記シミュレーションに用いるシミュレーションデータを作成するデータ作成手段と、前記シミュレーションデータに基づいて露光工程のシミュレーションを行う模擬手段とを有してなり、前記模擬手段は、得られたシミュレーション結果に基づいて、次に行うシミュレーションに使用するシミュレーションデータの内容を、前記データ作成手段に指示し、前記データ作成部は、前記模擬手段の指示に従ってシミュレーションデータを変更することを特徴とする光強度シミュレーション装置。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/00 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/00 ,  H01L 21/30 502 Z