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J-GLOBAL ID：200903096985641580

排ガスの処理装置

Inventor： 佐野 邦夫 ,  西川 和良 ,  吉野 和徳 ,  奥原 一巳
Applicant, Patent owner： 株式会社日本触媒
Agent (1)： 植木 久一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995230400
Publication number (International publication number)：1997075668
Application date： Sep. 07, 1995
Publication date： Mar. 25, 1997
Summary：

【要約】【課題】 排ガスに窒素化合物や硫黄化合物,ハロゲン化合物が含まれている場合であっても、NOxやSOx,ダイオキシン等の副生成物の発生を防止することのできる処理装置を提供する。【解決手段】 有害成分を含有する排ガスを触媒反応に適した温度に昇温させた後、触媒を充填してなる反応器に供給して上記有害成分を処理する装置であって、上記排ガスの導入ラインに、前記触媒により処理されたガスと排ガスとの熱交換を利用する熱交換器を備えてなり、前記反応器の上流側には、排ガスの局部的な昇温を招く加熱器を設けないことを要旨とする。また上記処理装置としては、前記触媒により処理されたガスを加熱する加熱器を上記反応器の下流側に設けると共に、上記排ガスの導入ラインに、該加熱器により加熱されたガスと排ガスとの熱交換を利用する熱交換器を備えてなる構成を採用することが好ましい。

Claim (excerpt)：

有害成分を含有する排ガスを触媒反応に適した温度に昇温させた後、触媒を充填してなる反応器に供給して上記有害成分を処理する装置であって、上記排ガスの導入ラインに、前記触媒により処理されたガスと排ガスとの熱交換を利用する熱交換器を備えてなり、前記反応器の上流側には、排ガスの局部的な昇温を招く加熱器を設けないことを特徴とする排ガスの処理装置。

IPC (8)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01J 23/26 ,  B01J 23/34 ,  B01J 23/64 ,  B01J 23/68 ,  B01J 23/835 ,  B01J 23/84

FI (9)：

B01D 53/36 ZAB D ,  B01J 23/26 A ,  B01J 23/34 A ,  B01J 23/64 A ,  B01J 23/68 A ,  B01J 23/84 A ,  B01D 53/36 G ,  B01D 53/36 Z ,  B01J 23/82 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭55-139819
  
• 特開昭53-005066
  
• 特開昭52-054673