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J-GLOBAL ID：200903096988334599

ウェーハエッジエッチング装置

Inventor： 徐 廷 宇
Applicant, Patent owner： 三星電子株式会社
Agent (6)： 八田 幹雄 ,  野上 敦 ,  奈良 泰男 ,  齋藤 悦子 ,  宇谷 勝幸 ,  藤井 敏史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003299733
Publication number (International publication number)：2004088111
Application date： Aug. 25, 2003
Publication date： Mar. 18, 2004
Summary：

【課題】 ウェーハエッジエッチング装置を提供する。【解決手段】 工程チャンバ100内に設けられ、ウェーハのエッジ部位のみエッチングガスが提供されるようにエッチングガス流れをガイドするガス分散板を備えるウェーハエッジエッチング装置において、ガス分散板106は、エッチングガスの流入口が中央に形成された上部板108と、上部板と締結されてエッジで前記エッチングガスの流出口を形成するために前記上部板と所定の間隔を維持する下部板110と、流入口と流出口間に配置されて上部板と下部板の間隔を維持するための少なくとも一つ以上のスペーサ112と、流出口近所に形成され、流入口に流入されたエッチングガスがエッジの流出口に流出する際、少なくとも一つ以上のスペーサの配置に関係なしに、実質的に均一に分散吐出されるようにガイドするガイド手段とを備える。【選択図】 図4

Claim (excerpt)：

工程チャンバ内に設けられ、ウェーハのエッジ部位にのみエッチングガスが提供されるようにエッチングガス流れをガイドするガス分散板を備えるウェーハエッジエッチング装置において、 前記ガス分散板は、 前記エッチングガスの流入口が中央に形成された上部板と、 前記上部板と締結されてエッジで前記エッチングガスの流出口を形成するために前記上部板と所定の間隔を維持する下部板と、 前記流入口と流出口間に配置されて上部板と下部板の間隔を維持するための少なくとも一つ以上のスペーサと、 前記流出口近所に形成され、前記流入口に流入された前記エッチングガスがエッジの流出口に流出する際、前記少なくとも一つ以上のスペーサの配置に関係なしに実質的に均一に分散吐出されるようにガイドするガイド手段と、 を備えることを特徴とするウェーハエッジエッチング装置。

IPC (1)：

H01L21/302

FI (1)：

H01L21/302 201A

F-Term (7)：

5F004AA01 ,  5F004BA19 ,  5F004BB18 ,  5F004BB28 ,  5F004BB32 ,  5F004DB00 ,  5F004EB08