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J-GLOBAL ID：200903096997398419
薄膜製造用スパッタ装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
板谷 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992108542
Publication number (International publication number)：1993279847
Application date： Mar. 31, 1992
Publication date： Oct. 26, 1993
Summary：
【要約】【目的】 使用済みのターゲットに代えて交換される予備ターゲットを真空槽内に備えることにより、真空槽を頻繁に大気開放することなく、設備を長期間、連続して稼働することが可能な薄膜製造用スパッタ装置を提供する。【構成】 真空槽11の内部で、ターゲット部材1が寿命に至った時に、ターゲット取り外し手段33によって、使用済みターゲット部材をスパッタ部13から離脱させ、ターゲット部材保管部21に保管されている予備ターゲット部材2を、ターゲット装填手段23によりスパッタ部13に装填する。これにより、真空槽11を大気に開放することなくターゲット部材1を交換することができる。
Claim (excerpt)：
真空槽内にスパッタ部を備え、このスパッタ部にターゲット部材を装填し、そのターゲット部材から粒子を離脱させ、真空槽内に設けた基板上に薄膜を形成させる薄膜製造用スパッタ装置において、使用済みのターゲット部材を交換のために前記スパッタ部から取り外すターゲット取り外し手段と、新たに前記スパッタ部に装填される予備ターゲット部材を保管するターゲット部材保管部と、前記予備ターゲット部材を前記ターゲット部材保管部から前記スパッタ部に搬送するターゲット装填手段とを具備したことを特徴とする薄膜製造用スパッタ装置。
IPC (2)：
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