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J-GLOBAL ID：200903097045099732

電解質積層膜の製造方法および製造装置

Inventor： 須藤 邦宏 ,  中島 文一郎 ,  富澤 恵子
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (7)： 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  栗原 彰 ,  川又 澄雄 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004070346
Publication number (International publication number)：2005254152
Application date： Mar. 12, 2004
Publication date： Sep. 22, 2005
Summary：

【課題】 被積層部材、特に凹凸を有する部材に、各電解質膜の膜厚が均一な電解質積層膜を積層するための製造方法及び製造装置を提供すること。【解決手段】 2層以上の電解質膜が積層されてなる電解質積層膜を製造する方法であって、被積層部材に電解質溶液を分注する工程を含むことを特徴とする電解質積層膜の製造方法。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

2層以上の電解質膜が積層されてなる電解質積層膜を製造する方法であって、被積層部材に電解質溶液を分注する工程を含むことを特徴とする電解質積層膜の製造方法。

IPC (4)：

B05D1/36 ,  B05C5/00 ,  B05C9/06 ,  B05D7/24

FI (4)：

B05D1/36 Z ,  B05C5/00 101 ,  B05C9/06 ,  B05D7/24 302Z

F-Term (18)：

4D075AC06 ,  4D075AE03 ,  4D075BB20Z ,  4D075DC30 ,  4D075EA12 ,  4F041AA01 ,  4F041AB01 ,  4F041BA05 ,  4F041BA22 ,  4F041BA38 ,  4F041BA56 ,  4F041BA60 ,  4F042AA01 ,  4F042AB00 ,  4F042BA08 ,  4F042BA25 ,  4F042CB02 ,  4F042CC08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 国際公開第00/13806号パンフレット
  
• 特許第3262323号公報
  

Cited by examiner (4)

• 交互吸着膜の製造方法および製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-107392   Applicant：大日本印刷株式会社
• 自動合成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-273070   Applicant：株式会社島津製作所
• 特開平2-026980
  
• 特開平2-026980