Pat
J-GLOBAL ID：200903097047058588

1-フェニルエチルアミン類の光学分割方法

Inventor：
萩谷 弘寿

About 萩谷 弘寿


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996084041
Publication number (International publication number)：1997278718
Application date： Apr. 05, 1996
Publication date： Oct. 28, 1997
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 特別の設備を用いることなく容易かつ高収量で1-フェニルエチルアミン類を光学分割する方法を提供する。【解決手段】 一般式1(R1 ,R 2は水素、ハロゲン、アルコキシ基、ハロアルキル基またはニトロ基、*は不斉炭素を示し、ただしR 1とR 2とが同時に塩素ではない。)の1-フェニルエチルアミン類を光学活性マンデル酸を用いて一般式(2)R3 -O-R4 (2)(R 3はC1〜6のアルキル基、R4 はC4〜6のアルキル基を示す。)のジアルキルエーテル中で光学分割する1-フェニルエチルアミン類の光学分割方法。
Claim (excerpt)：
一般式(1)(式中、R1 、R2 はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子,アルコキシ基、ハロアルキル基またはニトロ基を示し、*は不斉炭素原子を示す。ただし、R1 とR2とが同時に塩素原子であることはない。)で示される1-フェニルエチルアミン類を光学活性マンデル酸を用いて一般式(2)R3 -O-R4 (2)(式中、R3 は炭素数1〜6のアルキル基を、R4 は炭素数4〜6のアルキル基をそれぞれ示す。)で示されるジアルキルエーテル中で光学分割することを特徴とする1-フェニルエチルアミン類の光学分割方法。
IPC (7)：
C07C211/27 ,  C07C209/88 ,  C07C211/29 ,  C07C213/10 ,  C07C217/58 ,  C07B 57/00 360 ,  C07M 7:00
FI (6)：
C07C211/27 ,  C07C209/88 ,  C07C211/29 ,  C07C213/10 ,  C07C217/58 ,  C07B 57/00 360
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM