MR複合ヘッド及びその製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：合田潔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994325467
Publication number (International publication number)：1995262519
Application date： Dec. 27, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】サイドフリンジを最小化し、オフトラック性能を改善するため、垂直に位置合せされた側壁を有するMR複合ヘッドを提供する。【構成】読取りヘッドの第2シールド層S2を構成する底極片P1が、短い長さ寸法のペデスタル磁極端を有する。ギャップ層Gの長さの2倍ほどの短い長さを有するペデスタル磁極端によって、サイドライティングが最適に最小化され、オフトラック性能が改善される。書込みヘッドの底磁極端構造は、頂磁極端構造をマスクとして使用するイオン・ビーム・ミリングによって構成される。イオン・ビーム・ミリングは、頂磁極端構造の側壁に対してある角度に向けられ、これによって、底磁極端構造が、側壁を頂磁極端構造と位置合せされた状態でミリングされる。

Claim (excerpt)：

底極片P1と頂極片P2とを有する書込みヘッドを含み、前記底極片P1が底磁極端要素PT1aと頂磁極端要素PT1bとを有し、前記頂極片P2が磁極端要素PT2を有することを特徴とし、前記底極片とその磁極端要素PT1aとを含む第2シールド層S2を有するMR読取りヘッドを含み、前記頂磁極端要素PT1bが、第2シールド層S2に関してペデスタルを形成することを特徴とし、前記頂磁極端要素PT1bおよび前記磁極端要素PT2のそれぞれが、第1および第2の側壁を有し、前記頂磁極端要素PT1bおよびPT2のそれぞれの第1側壁が、共通して第1垂直面内にあり、前記頂磁極端要素PT1bおよび前記磁極端要素PT2のそれぞれの第2側壁が、共通して第2垂直面内にあることを特徴とし、前記第1および第2の垂直面が、エア・ベアリング面(ABS)において、書込みヘッド・トラック幅を表す距離wだけ互いに離隔して置かれることを特徴とする、MR複合ヘッド。

IPC (2)：

G11B 5/31 , G11B 5/39

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

複合型薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-331337 Applicant：日本電気株式会社
特開昭60-035315
特開昭63-055711

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