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J-GLOBAL ID：200903097081739683

光化学的に酸を発生するフォトレジスト用化合物

Inventor： トーマス エー.コーイス
Applicant, Patent owner： モートン インターナショナル,インコーポレイティド
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994004482
Publication number (International publication number)：1994256292
Application date： Jan. 20, 1994
Publication date： Sep. 13, 1994
Summary：

【要約】【目的】 放射線分解の際に酸を発生する新規化合物を提供する。【構成】 下式を有するジアゾキノンスルホニルエステル。【化1】(式中、Rは水素、ヒドロキシル、又は-O-S(=O)2-Q 部分であり、R1 はCH2OS(=O)2-Q又は-NO2であり、R2 はCH2OS(=O)2-Q又は-NO2であり、R3 は低級アルキル又は水素であり、R4 は水素、CH2OS(=O)2-Q又は-NO2であり、R5 は水素、CH2OS(=O)2-Q又は-NO2であり、Qはジアゾナフトキノン部分であり、但しR2 及びR4 がNO2 である場合R3 は低級アルキルであり、R1 とR2 は同一ではなくかつR4 とR5 は同一ではない)

Claim (excerpt)：

下式【化1】(上式中、Rは水素、ヒドロキシル、又は-O-S(=O)2-Q部分であり、R1 はCH2 OS(=O)2-Q又は-NO2 であり、R2 はCH2 OS(=O)2-Q又は-NO2 であり、R3 は低級アルキル又は水素であり、R4 は水素、CH2 OS(=O)2-Q又は-NO2 であり、R5 は水素、CH2 OS(=O)2-Q又は-NO2 であり、Qはジアゾナフトキノン部分であり、但しR2 及びR4 がNO2 である場合R3 は低級アルキルであり、R1 とR2 は同一ではなくかつR4 とR5 は同一ではない)を有するジアゾキノンスルホニルエステル。

IPC (6)：

C07C309/71 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 561