シリカ保護膜の作成方法および磁気記録媒体の製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：柳田征史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995130796
Publication number (International publication number)：1996325700
Application date： May. 29, 1995
Publication date： Dec. 10, 1996
Summary：

【要約】【目的】酸化することによってシリカに転化するポリシラザンを用い、塗膜法によってシリカ保護膜を形成するについて、低温条件で成膜可能とする。【構成】基板上にポリシラザンの塗膜を形成した後、この塗膜に紫外線照射等の光照射を行って酸化、重合を行い、シリカ保護膜を形成する。

Claim (excerpt)：

基板上にポリシラザンの塗膜を形成した後、この塗膜に光照射を行って酸化、重合を行い、シリカ保護膜を形成することを特徴とするシリカ保護膜の作成方法。

IPC (3)：

C23C 8/10 , G11B 5/84 , G11B 5/72

FI (3)：

C23C 8/10 , G11B 5/84 B , G11B 5/72

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

液晶表示装置およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-341469 Applicant：触媒化成工業株式会社
平滑ガラス基板およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-272944 Applicant：触媒化成工業株式会社
コーティング用組成物及びコーティング方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-030750 Applicant：東燃株式会社

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