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J-GLOBAL ID：200903097153066611

機械的に頑丈な非晶質シリコン作像装置を製造する方法

Inventor： ロバート・フォーレスト・クアズニック ,  ロジャー・シュルツ・イール ,  リチャード・ジョセフ・サイア
Applicant, Patent owner： ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
Agent (1)： 生沼 徳二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994208294
Publication number (International publication number)：1995174858
Application date： Sep. 01, 1994
Publication date： Jul. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】 シンチレータと障壁層との間に強力な接着力を有している機械的に頑丈な非晶質シリコン作像装置を製造する方法を提供する。【構成】 シンチレータ180と光センサ配列120との間に強力な接着力を有していると共に構造的な健全性を有している放射線作像装置100を製造する方法が、基板110上に光センサ配列120を形成する工程と、光センサ配列120の上に、窒化シリコンの上面を有している障壁層150を沈積する工程と、障壁層150の窒化シリコンの上面を処理して、その上に材料を沈積するためにこの面を調製する工程と、障壁層150の処理された上面の上にシンチレータ材料を沈積する工程とを含んでいる。障壁層150の窒化シリコンの上面は典型的には、反応性イオン・エッチングのように面をエッチングすることによって、選択された時間の間処理され、面から除去される材料は約500オングストローム未満である。

Claim (excerpt)：

シンチレータとその下方にある耐湿障壁層との間に強力な接着力を有している機械的に頑丈な非晶質シリコン作像装置を製造する方法であって、基板上に光センサ配列を形成する工程と、前記光センサ配列の上に、窒化シリコンで構成された上面を有している光センサ配列障壁を沈積する工程と、前記障壁層の窒化シリコン面の上に材料を沈積する前に、前記窒化シリコンの露出面を調製するように、前記障壁層の窒化シリコン面を処理する工程と、前記障壁層の窒化シリコン面の処理された面の上にシンチレータ材料を沈積する工程とを備えた機械的に頑丈な非晶質シリコン作像装置を製造する方法。

IPC (2)：

G01T 1/20 ,  H01L 21/28 301

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭55-129782
  
• 特開昭56-022331
  
• 特開昭63-051630