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J-GLOBAL ID：200903097164805653

蒸気圧の高い有機金属化学蒸着によるビスマス及びビスマス酸化物薄膜形成用有機ビスマス化合物

Inventor： 齋 篤 ,  内田 寛人 ,  佐藤 正光 ,  小木 勝実
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995075361
Publication number (International publication number)：1996269717
Application date： Mar. 31, 1995
Publication date： Oct. 15, 1996
Summary：

【要約】【目的】 MOCVD法によるビスマス及びビスマス酸化物薄膜の形成に際し、気化の際の熱安定性に優れ、均一かつ安定した成膜速度を再現性良く得ることができるビスマス及びビスマス酸化物薄膜形成用有機ビスマス化合物を提供する。【構成】 下記式(I)で表されるMOCVD法ビスマス及びビスマス酸化物薄膜形成用有機ビスマス化合物。【化11】

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で表される蒸気圧の高い有機金属化学蒸着によるビスマス及びビスマス酸化物薄膜形成用有機ビスマス化合物。【化1】(ただし、上記(I)式中、R1 ,R2 は、炭素数1〜4の直鎖又は分岐状のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖又は分岐状のフッ化アルキル基、水素原子又はフッ素原子を示し、R1 とR2 とは互いに異なっていても良く、同一であっても良い。)

IPC (7)：

C23C 16/18 ,  C01G 1/00 ,  C01G 29/00 ZAA ,  C07F 9/94 ,  C30B 25/00 ,  H01L 39/12 ZAA ,  H01L 39/24 ZAA

FI (7)：

C23C 16/18 ,  C01G 1/00 S ,  C01G 29/00 ZAA ,  C07F 9/94 ,  C30B 25/00 ,  H01L 39/12 ZAA C ,  H01L 39/24 ZAA B