元素マッピング装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西岡義明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999278082
Publication number (International publication number)：2001099795
Application date： Sep. 30, 1999
Publication date： Apr. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】必要十分な精度のマッピング像を短時間で取得する。【解決手段】一つの分析点に正しく電子線があたっていることを確認した後に計数を開始し、全てのマッピング対象元素について、(a)一時カウンタの値が最大カウント数Nmaxをこえる、(b)ゼロ判定時間が経過した時に一時カウンタのカウント値がNmin以下である、(c)計数時間が最大カウント時間Tmaxをこえる、のいずれかの条件を満したときに計数を終了し、走査位置を次のポイントに移す。

Claim (excerpt)：

励起ビームを試料上の各点に順次照射し、試料の励起ビーム照射位置から発生する特性X線の強度を測定して試料の元素マッピング分析を行う装置において、一つの測定点について各特性X線をカウントする各カウント手段と、各カウント手段における最大のカウント数を設定する最大カウント数設定手段と、X線をカウントする最大の時間を設定する最大カウント時間設定手段と、前記各カウント手段によってカウントされた各元素カウント数とあらかじめ設定された前記最大カウント数とを比較する第1比較手段と、この第1比較手段により各元素カウント数が前記最大カウント数を越えたと判断されたとき、または、カウント時間が前記最大カウント時間となったときに前記励起ビームの照射位置を次に進める照射位置変更手段を設けることを特徴とする元素マツピング装置。

IPC (2)：

G01N 23/225 , H01J 37/252

FI (2)：

G01N 23/225 , H01J 37/252 A

F-Term (17)：

2G001AA03 , 2G001BA05 , 2G001CA01 , 2G001FA06 , 2G001GA01 , 2G001GA04 , 2G001GA06 , 2G001HA01 , 2G001HA13 , 2G001JA02 , 2G001JA03 , 2G001JA11 , 2G001JA13 , 2G001KA01 , 2G001PA11 , 5C033PP02 , 5C033PP05

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